第232章 美柚轰动全网，雷布斯的出路(第1/5页)

美柚轰动全网，雷布斯的出路

虽然芯片工厂问题不大，有帝都提供，王逸可以省下几十亿。

但里面的生产线，光刻机等设备，都要王逸自己解决。

这些才是最贵的，保守估计后续投入也得一百五十亿起步。

像是光刻机，2010年阿斯麦就推出了euV光刻机TwInscannXe:3100。

前世，2013年阿斯麦又推出euV光刻机nXe:3300。

不过这些先进的euV光刻机，王逸就不考虑了，不现实，不可能对内地企业出售的。

前世中芯国际订购了一台euV光刻机，花了1.2亿美金，钱都付了，最后因为帝国阻挠，阿斯麦也迟迟没有发货。

相反，内地企业能买到的，也就是落后很多代的DuV光刻机。

比如2016年出的nXT1980Di，是前世内地企业买到的最先进光刻机之一，也是中芯国际主力机型。

拿着nXT1980Di当euV3300用，真是太强人所难。

如今佳能已经放弃高端，停留在55nm，再往上完全干不动。

像是三星台积电的未来几年的28nm、22nm、20nm、16nm、14nm、10nm，很多都是用的nXT：1950i！

若是趁机出手，多订一批，那后续就高枕无忧了。

同样，王逸的12英寸晶圆厂，若是买到nXT：1950i和1960Bi，也能从明年的28nm，一直用到22nm、20nm、16nm、14nm、10nm，甚至7nm。

中芯国际，华力等企业，都是用nXT1980Di二重曝光，量产28-19nm的芯片。

王逸记得，前世euV光刻机要1.2亿美金，1980Di要7200万美金。

更先进的DuV光刻机nXT:2000i，都买不到，更别说nXT:2050i。

毕竟三星、台积电2016年量产10nm芯片的时候，nXT：1980Di光刻机才开始量产！

7nm之前的制程，三星台积电用的都是1950i、1960Bi、1970ci等老型号。

但中芯国际买不到euV光刻机，只能硬着头皮用nXT1980Di进行三重曝光，四重曝光，甚至五重曝光。

当然，2011年nXT1980Di还没有发布。

而当下的1950i估计会便宜一些。

比如尼康的nsR-s620D和阿斯麦的1950i，性能差不了多少，多重曝光后也可以做10-28nm，甚至7nm。

使得中芯国际的28nm工艺大规模量产，能满足大多数芯片需求。

阿斯麦不但在DuV光刻机领域独领风骚，而且开始发力euV光刻机，进军7nm以下的制程。

不过老款的1950i运作一下，还是有希望的。

当然，不能只压阿斯麦，小日子那边也得看看。

可7nm制程，就要用nXT1980Di四重曝光，技术方面梁老都能解决，但良品率和成本就不好说了。

20台就是70亿！

为什么一次性进这么多？还不是怕做大了被锤！

果然，一台1950i光刻机要4000万欧元，5470万美元，也就是3.5亿人民币。

14nm需要三重曝光，凭借梁老的技术，良品率和成本也能保证。

哪怕溢价买，都不成问题！

幸好梁老能力突出，在多重曝光领域造诣颇深，硬是推出n+1、n+2工艺，用nXT1980Di这种落后的光刻机，实现了14nm、10nm，甚至7nm。

最初，台积电用nXT:1980Di来制造7nm芯片，效果很不理想，良品率低，成本高，最后还是换上euV光刻机，才实现了完美的7nm。

同样，要用nXT:1980Di来制造14nm、7nm的芯片，那就得靠多重曝光技术，对厂家的技术要求非常高，量产芯片的成本也很高。

巧妇难为无米之炊。

当然趁着当下风头不紧，抓紧多进一些！

这样后续产能扩大，都够用，一直用到2018年1980di都不再禁售。

进上十台，就是35亿。

而尼康还在苦苦坚持，高端领域没希望，可是中低端领域还是没问题的。

后续的nXT：1960Bi、1970ci、1980Di，不过是在nXT：1950i进行了部分升级，提高了良品率和精度，本质上相差不大。

为此，王逸拿出手机，开始查数据。

梁老的两重曝光技术，不但把中芯国际的28nm良品率从50%提到了90%以上，成本也不会增加太多。

原本光刻机三巨头阿斯麦，尼康，佳能。

不过