第435章 芯片自研自产！收购中芯国际的晶圆(第3/5页)

方也会更加重视你之前的提议。已经组建相关机构，成立攻坚团队，进一步加大对光刻机、光刻胶等领域的研发投入，当做最核心的项目去突破。”

赵老叹了口气：“过去，种种因素决定，我们对于半导体，对于光刻机的投入，都不够大。但现在，彻底变了。”

最初，王逸托秦主任送上去的那份报告，引起了部分关注，但是很有限，很快就被束之高阁。

后来，星逸手机热销，秦主任拿着那份报告再度找上老领导赵老，苦口婆心地劝谏。

赵老也觉得星逸科技有前途，再度在顶层会议上提出那份报告。

这一次，有部级领导的亲自背书，再加上星逸科技不断做大，成为顶级巨头。

只能说，人的名，树的影。

之前的星逸科技是个新兴企业，上层关注度不够，再好的报告，也没多少重视。

可如今星逸科技成了国内顶级巨头，在国际上都所向披靡，干苹果，镇三星，打的hTc找不到北。

可以说，早已今非昔比！

没有任何意外，这一次，王逸的那份报告引起顶层高度重视，以及众多要员和院士的全力支持。

光刻机、光刻胶等项目，也成功地被列入国家战略核心项目，要求相关机构联合攻坚，投入巨资突破。

如今星逸半导体实现了40纳米芯片的自研自产，王逸的分量变得更重。

那份报告的含金量也会更高，相关项目的研发和投入，也会更恐怖！

说白了，一切都实力说话。

前世，为什么那么支持华为？

就是因为华为有底蕴，有能力，有技术，能做到其他企业做不到的突破。

同样，星逸科技也展示出了恐怖的实力。

苹果、三星、高通都做不到的基带集成，星逸半导体做到了。

中芯国际那么多年都搞不定的40纳米工艺，星逸晶圆厂搞定了，试产良品率就高达89%，后续只会更高。

华为都做不到的芯片自研自产，星逸科技做到了，还性能卓越。

如此成绩，全球都会震惊。

高层自然会高度关注，大力支持。

“王董，你放心，用不了几年，光刻机会突破，光刻胶也会突破！”赵老郑重道。

这年头的光刻机还是DuV光刻机，不像euV光刻机那么难如登天，自然好突破。

同样，光刻机也只是28纳米，20纳米的中端光刻胶，不像前世5纳米，3纳米纳米的高端光刻胶那么困难。

说白了，当下和欧美的差距还很小。

因为王逸之前不知天高地厚的提议，官方提前布局，提前攻坚，完全可以在差距小的时候，提前追赶上欧美，甚至弯道超车。

前世，落后得太多。

那时候，欧美euV都了好几代，并且投用了多年，咱们才奋起直追DuV光刻机，自然难。

可这一次，大家都还是DuV，那就简单了。

至于阿斯麦的euV，目前还不成熟，正式投用还得好几年。

因为王逸的提议，提前追赶，前途可期。

“那再好不过，我相信国家机器的力量。”王逸笑说。

像是DuV光刻机，星逸科技要做，十年都难。

官方要做，有国家机器全力支持，五年就差不多搞定14纳米的DuV。

后续不断迭代升级，逐步提高精准度，达到10纳米，7纳米，不在话下。

毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式DuV1250i，最初也是造45纳米芯片的。

后续不断对DuV光刻机的光源、光学系统、套刻精度、温控等方面，进行全方位升级。

这才逐渐实现了32-28纳米工艺，以及后续的20-16纳米工艺，再到10纳米节点、7纳米节点，以及十年后的5纳米节点。

前世DuV国产光刻机之所以迟迟不量产，主要原因就是要求高，起步高。

若是只能量产45纳米，那意义不大，推出了也没多少企业用。

十年后，缺的是高端光刻机，不是45纳米的光刻机。

但要想量产7纳米，甚至5纳米，那难度就大了，国产DuV都得不断升级。

因此，国产DuV迟迟不推出，就是在憋大招。

不过这一次就无所谓了。

起步早，能量产28纳米，就算是非常成功。

甚至量产45纳米，王逸都会疯狂买买买。

毕竟未来五年内，45纳米都是主流芯片。

而28纳米和20纳米，都只是少量的旗舰芯片，只占少数。

相反，更多的芯片都是物美价廉的45纳米。

国产光刻机若是能量产45纳米，都会很有市场。

但若是十年后才推出45纳米的国产光刻机，那就难了。

毕竟十年后